Glas – Wafer – Solar
Das starke Wachstum in der Solarindustrie setzt neue Maßstäbe und erfordert eine Umstellung der Reinigungsprozesse. Wo früher noch die fertig bearbeiteten Wafer in Ultraschallbecken gereinigt und vom Mitarbeiter von Hand beschickt wurden, setzt UCM heute vollautomatische Ultraschall-Reinigungslinien ein, die durch den Einsatz eines Portalroboters den hohen Anforderungen an Durchsatz und die Reinigung ohne Stillstandzeiten gerecht werden.
Beispiel einer Reinigungsanlage für Wafer (Solar)

- Reinigungsanlage der Fa. Freiberger Solar
- Verschmutzung: Partikel (nach Abschneiden beschädigter Ränder und Schleifen)
- Reinigen vor der Auslieferung
- Gereinigt wird in Körben (1.800 Wafer/h)

- Korb mit Wafern (von oben)








